蚀刻垫片加工是一种精密制造工艺，主要用于生产高精度、复杂形状的薄型金属垫片。以下是该技术的核心要点及注意事项：

一、蚀刻垫片加工原理

通过化学蚀刻（光化学腐蚀）或物理蚀刻（如等离子蚀刻）方式，在金属薄板上选择性去除材料，形成特定形状的垫片。

二、蚀刻垫片适用材料

1.金属材料

-不锈钢（304/316常用）

-铜合金（黄铜、铍铜）

-铝合金（5052/6061）

-钛合金（医疗/航空航天领域）

-镍基合金（哈氏合金）

2.厚度范围

-典型厚度：0.01mm-2.0mm

-超薄加工极限可达0.005mm

三、蚀刻垫片加工流程

1..材料准备

-选择金属板材（厚度0.01~2mm），常见材质包括304/316不锈钢、铜箔、铝等。

-清洁表面油污及氧化层，确保光刻胶附着力。

2.涂覆光刻胶

-在金属表面均匀涂覆感光胶（干膜或液态胶），通过紫外曝光将图形转移到胶层。

3.显影与蚀刻

-显影后，未曝光区域的光刻胶被去除，露出金属基材。

-化学蚀刻（如FeCl?蚀刻液）溶解裸露金属，控制时间、温度及浓度以调节蚀刻深度。

4.去胶与清洗

-剥离剩余光刻胶，超声波清洗去除残留蚀刻液。

5.后处理

-表面抛光、钝化（如不锈钢电解抛光）或电镀（如镀镍、镀金）。

-关键应用需做应力消除处理。

四、蚀刻垫片加工技术优势

1.精度特性

-尺寸公差：±0.01mm（常规）

-最小孔径：0.1mm（板厚≤0.1mm时）

-锐角加工：可达30°以下

2.特殊能力

-无机械应力变形

-可加工高硬度材料（如弹簧钢）

-表面粗糙度Ra≤0.8μm

3.小批量经济性

-模具成本低，适合定制化生产

五、蚀刻垫片典型应用

-密封行业：内燃机气缸垫、燃料电池双极板密封圈。

-电子领域：EMI屏蔽垫片、柔性电路板衬垫。

-精密机械：微型轴承隔离片、光学器件定位垫。

六、蚀刻垫片质量控制要点

-蚀刻均匀性：通过喷射蚀刻设备控制液流动态，减少厚度偏差。

-侧蚀控制：优化蚀刻液配方（如添加缓蚀剂），降低横向腐蚀速率。

-尺寸检测：使用光学投影仪或激光扫描测量关键尺寸。

-功能性测试：密封性验证（氦质谱检漏）、耐腐蚀试验（盐雾测试）。

七、蚀刻垫片加工常见问题

-边缘毛刺：优化蚀刻参数或增加微蚀步骤。

-材料过蚀：采用双面掩膜保护或分段蚀刻。

-环保挑战：蚀刻废液需中和处理。

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